【硬X射線納米探針線站】  

　 

　　硬X射線納米探針線站是HEPS光源三條超長的光束線站之一，其最大的特點是利用HEPS光源極低發(fā)射度的特性，將硬X射線聚焦至納米尺度形成超高亮度的光探針，用于開展高分辨的原位體相表征研究。結(jié)合X射線成像、衍射、譜學(xué)以及電鏡成像等多種實驗技術(shù)的多模態(tài)表征，在納米尺度甚至原子尺度上解析材料二維或三維的結(jié)構(gòu)、應(yīng)變、化學(xué)狀態(tài)以及動力學(xué)效應(yīng)等關(guān)鍵信息。該線站可廣泛適用于材料、生命、物理、化學(xué)、環(huán)境、半導(dǎo)體、藥物，文化遺產(chǎn)以及行星科學(xué)等領(lǐng)域的前沿科學(xué)研究。

　　主要的實驗方法有高分辨熒光譜成像（n-XRF）、掃描相干衍射成像（Ptychography）、納米全息相干成像（Nano-holography）、納衍射（n-XRD）、近邊吸收譜（n-XANES）和在線掃描電鏡成像（SEM)等。

　　本線站主要參數(shù)為：

　　能量范圍：5-30keV

　　能量分辨率：10^-4～10^-5

　　最小聚焦光斑：<10nm （高分辨模式）；<50（原位模式）

　　光通量：10⁹~10¹⁰ phs/s@10keV（高分辨模式）；10¹⁰~10¹¹phs/s@10keV（原位模式）

　　聚焦光斑工作距離： 1~2mm（高分辨模式）；40~50mm（原位模式）

　　樣品尺寸：    亞μm ~ mm尺度

       樣品信息（結(jié)構(gòu)、元素、價態(tài)等）成像分辨率： ~ 納米尺度

　　 

 

 負(fù)責(zé)人：常廣才（010-88236710，changgc@ihep.ac.cn，微信：18612610050） 

　　  

 

　　

　　硬X射線納米探針線站光學(xué)布局俯視圖