A method to fabricate high-aspect-ratio microstructures using PMMA photoresist
- 聯(lián)系作者：
- 刊物名稱：MICROSYSTEM TECHNOLOGIES-MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS
- 所屬學(xué)科：
- 作者：Zhang, TC; Yi, FT; Wang, B et al.
- 發(fā)表年度：2018
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- 論文類別：
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