論文
您當(dāng)前的位置:首頁 > 科研成果 > 論文
A closed-circulation system for chemical polishing of the 1.3-GHz single-cell copper cavity substrate for niobium sputtering

  • 聯(lián)系作者:
  • 刊物名稱:JOURNAL OF INSTRUMENTATION
  • 所屬學(xué)科:
  • 作者:Yang, FY; Dai, J; Zhang, P et al.
  • 發(fā)表年度:2021
  • 卷:
  • 期:
  • 頁:
  • 論文類別:
  • 影響因子:
  • 參與作者:
  • DOI:
地址:北京市918信箱 郵編:100049 電話:86-10-88235008 Email:ihep@ihep.ac.cn
中國科學(xué)院高能物理研究所 備案序號:京ICP備05002790號-1 文保網(wǎng)安備案號: 110402500050