一種基于連續(xù)雙縫掃描的束流發(fā)射度測(cè)量?jī)x及測(cè)量方法
- 英文名稱：A beam emittance measuring instrument and measuring method based on continuous double-slit scanning
- 專利號(hào)：ZL 202311509940.9
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號(hào)：
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN202311509940.9
- 發(fā)明人：楊仁俊; 陳偉文; 劉仁洪; 姜世民
- 其它發(fā)明人：
- 申請(qǐng)日期：2023-11-13
- 授權(quán)日期：2024-09-24
