一種高分辨率慢正電子束形貌的測量方法及裝置
- 英文名稱：The present invention relates to a high-resolution slow positive electron beam topography measuring method and its equipment
- 專利號：ZL 202110732713.7
- 專利類別：發(fā)明授權
- 專利證書號：
- 申請?zhí)枺?/span>CN202110732713.7
- 發(fā)明人：況鵬; 胡譽; 劉福雁; 曹興忠; 于潤升; 王寶義; 張鵬; 魏龍
- 其它發(fā)明人：
- 申請日期：2021-06-29
- 授權日期：2024-04-02
