專利
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一種用于雙spoke超導(dǎo)腔緩沖化學(xué)拋光裝置

  • 英文名稱:A buffer chemical polishing apparatus for a double-spoke superconducting cavity
  • 專利號(hào):ZL 202321871779.5
  • 專利類別:實(shí)用新型
  • 專利證書(shū)號(hào):
  • 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN202321871779.5
  • 發(fā)明人:戴勁; 周文中; 潘衛(wèi)民; 賀斐思; 葛銳; 靳松; 常正則; 米正輝; 王子晗; 劉銘
  • 其它發(fā)明人:
  • 申請(qǐng)日期:2023-07-17
  • 授權(quán)日期:2024-01-09
地址:北京市918信箱 郵編:100049 電話:86-10-88235008 Email:ihep@ihep.ac.cn
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