精確測量低二次電子發(fā)射系數材料最薄貢獻厚度的方法
- 英文名稱：The invention relates to a method for accurately measuring the thinnest contribution thickness of a material with a low secondary electron emission coefficient
- 專利號：ZL 202210473415.5
- 專利類別：發(fā)明授權
- 專利證書號：
- 申請?zhí)枺?/span>CN202210473415.5
- 發(fā)明人：王玉漫; 劉術林; 孫志嘉; 閆保軍; 周健榮; 衡月昆; 蔣興奮; 張斌婷; 韋雯露; 姚文靜; 彭華興; 譚金昊
- 其它發(fā)明人：
- 申請日期：2022-04-29
- 授權日期：2023-07-28
