一種高二次電子發(fā)射系數的雙層薄膜及其制備方法
- 英文名稱：The invention relates to a double-layer film with high secondary electron emission coefficient and a preparation method thereof
- 專利號：ZL 202011422644.1
- 專利類別：發(fā)明授權
- 專利證書號：
- 申請?zhí)枺?/span>CN202011422644.1
- 發(fā)明人：閆保軍; 王玉漫; 劉術林; 溫凱樂; 張斌婷; 谷建雨; 姚文靜
- 其它發(fā)明人：
- 申請日期：2020-12-08
- 授權日期：2022-07-08
