專利
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基于先進(jìn)光源原位成像的超高周疲勞損傷試驗(yàn)系統(tǒng)

  • 英文名稱:Ultra-high cycle fatigue damage test system based on advanced light source in-situ imaging
  • 專利號(hào):ZL 201910523647.5
  • 專利類別:發(fā)明授權(quán)
  • 專利證書號(hào):
  • 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN201910523647.5
  • 發(fā)明人:吳圣川; 吳正凱; 鮑泓翊璽; 謝成; 胡雅楠; 劉宇杰; 康國(guó)政; 王清遠(yuǎn); 何超; 付亞楠; 肖體喬; 李可; 錢桂安; 洪友士; 袁清習(xí)
  • 其它發(fā)明人:
  • 申請(qǐng)日期:2019-06-17
  • 授權(quán)日期:2020-06-19
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