專利
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消除衛(wèi)星粉的氣霧化制粉設(shè)備用反應(yīng)室及氣霧化制粉設(shè)備

  • 英文名稱:Reaction chamber for gas atomization pulverizing equipment for eliminating satellite powder and gas atomization pulverizing equipment
  • 專利號:ZL 201821680887.3
  • 專利類別:實用新型
  • 專利證書號:
  • 申請?zhí)枺?/span>CN201821680887.3
  • 發(fā)明人:邢雪青
  • 其它發(fā)明人:
  • 申請日期:2018-10-17
  • 授權(quán)日期:2019-05-31
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