一種實(shí)現(xiàn)光刻膠微結(jié)構(gòu)的方法
- 英文名稱：A method for realizing the method of photoresist micro-structure
- 專利號(hào)：ZL 201410456863.X
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號(hào)：
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN201410456863.X
- 發(fā)明人：張?zhí)鞗_; 伊福廷; 王波; 劉靜; 張新帥
- 其它發(fā)明人：
- 申請(qǐng)日期：2014-09-10
- 授權(quán)日期：2017-10-27
