一種用于LIGA技術(shù)的光刻膠膜與基片的復(fù)合結(jié)構(gòu)的制備方法
- 英文名稱：A LIGA technology used for the substrate of the photoresist film preparation method of composite structure
- 專利號(hào)：ZL 201310380360.4
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號(hào)：
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN201310380360.4
- 發(fā)明人：伊福廷
- 其它發(fā)明人：
- 申請(qǐng)日期：2013-08-28
- 授權(quán)日期：2015-11-11
