專利
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一種正電子斷層掃描中符合系統(tǒng)及符合方法

  • 英文名稱:
  • 專利號:ZL 200710064593.8
  • 專利類別:發(fā)明
  • 專利證書號:
  • 申請?zhí)枺?/span>CN200710064593
  • 發(fā)明人:李可;魏龍;李道武;章志明;孔偉;單寶慈;王寶義;
  • 其它發(fā)明人:
  • 申請日期:2007-03-21
  • 授權(quán)日期:2007-03-21
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