BEPCII備用腔研制取得新進展
在所領導、加速器中心領導直接關心和領導下，以加速器中心高頻組、低溫組為主，真空組、防護組通力配合，7月7日-8日凌晨，圓滿完成了BEPCII備用腔第二只腔體的垂直測量。在4.2K下，腔電壓達到2.3MV、腔的品質因數(shù)Q0=1.2E+9，超過設計要求（腔電壓1.5MV、品質因數(shù)Q0=5E+8），也超過了第一只備用腔腔體測量指標（腔電壓1.8MV、品質因數(shù)Q0=1.12E+9），位于國際先進水平。
這是自今年初第一只備用腔成功垂直測量后取得的又一重要進展。研制人員發(fā)揚BEPCII精神，加班加點、不計得失、連續(xù)工作、群策群力，解決了許多在準備工作和測試中遇到的意想不到的各種問題，在上次經驗基礎上很快成功地捕捉并鎖定了超導腔頻率、完成了各種標定和Q0~Eacc特性的測試。第二只備用腔腔體的垂直測量結果標志著我所500MHz超導腔腔體研制水平大大提升，也為完成BEPCII超導備用腔的高功率試驗奠定了重要基礎。
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